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CXM 系列納米級超細磨為料漿流動方向與轉子離心方向一致的新型研磨機。本公司2007年新開發CXM系列納米級超細磨，用球只有￠0.3~0.8mm小球作研磨介質的臥式高效研磨機，將物料短時間內研磨至300~600納米，粒度分布狹窄而集中。
研磨盤可為偏心、三偏心或圓形結構，按一定順序排列，研磨介質分布均勻，研磨效率高，產品細度可達到 微米或亞微米級。
CXM系列納米級超細磨為料漿流動方向與轉子離心方向一致的新型研磨機。本公司2007年新開發CXM系列納米級超細磨，用球只有￠0.3~0.8mm小球作研磨介質的臥式高效研磨機，將物料短時間內研磨至300~600納米，粒度分布狹窄而集中。
分級分離分級研磨功能：離心分離的作用，細顆粒物料被排出磨腔，研磨次數少，可防止過磨；大顆粒物料不能排出，在磨腔內多磨幾次甚至幾十次，很快被磨細；最終產品顆粒非常均勻，分布很窄。
